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PGMEA除去の課題と解決策｜半導体レジスト工程の安全対策
半導体のレジスト工程で使うPGMEA（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）は、レジスト […]-
株式会社TOGA
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トリクロロエチレン除去の課題と解決策｜金属部品の脱脂洗浄現場の安全対策
金属部品の脱脂洗浄でトリクロロエチレンが使われ続けているのは、切削油やワックスを落とす力が強く、燃え […]-
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ジクロロメタン除去の課題と解決策｜有機合成・分析ラボの安全対策
ジクロロメタン（塩化メチレン）は、有機合成の反応溶媒、抽出、カラムクロマトグラフィー、器具の洗浄まで […]-
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テトラヒドロフラン（THF）除去の課題と解決策｜樹脂・接着剤の開発と試作現場の安…
テトラヒドロフラン（THF）は、塩化ビニル系の樹脂を溶かす力が強く、接着剤やコーティング剤の配合に使 […]-
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イソプロピルアルコール（IPA）除去フィルター｜電子部品・基板の洗浄工程の作業環…
電子部品や基板の洗浄で使うイソプロピルアルコール（IPA）は、扱いに慣れた溶剤です。水にも油にもなじ […]-
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硫酸ミスト除去の課題と解決策｜スクラバーを置けない表面処理現場の安全対策
陽極酸化や酸洗浄の現場で硫酸ミストの対策を調べはじめると、たいていスクラバーの話に行き着きます。 た […]-
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メタノール除去の課題と解決策｜視覚器へのリスクに備える製造・研究現場の安全対策
メタノール（メチルアルコール）の蒸気は、相対密度が空気の1.1倍しかありません。床へ沈まず、室内全体 […]-
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ジエチルエーテル除去の課題と解決策｜引火点マイナス45℃に備える研究室の安全対策
ジエチルエーテル（エーテル）は、引火点がマイナス45℃という、実験室で扱う溶媒のなかでも際立って着火 […]-
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エチルベンゼン除去の課題と解決策｜ブースの外に残る調色・洗浄作業の安全対策
エチルベンゼンは、有機溶剤でありながら特定化学物質障害予防規則の対象です。労働安全衛生法では特定化学 […]-
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メチルエチルケトン（MEK）除去の課題と解決策｜塗装・接着現場の安全対策
メチルエチルケトン（MEK）を扱う現場では、局所排気装置を設置していても「作業台のまわりで溶剤臭が消 […]-
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ブタノール除去で作業環境を改善｜研究室・塗料製造現場の1-ブタノール対策
1-ブタノール（n-ブタノール）を使っている現場では、においで存在に気づくことがほとんどです。ただ、 […]-
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フェノール（石炭酸）除去で作業環境を改善｜樹脂製造・研究現場の安全対策
フェノール（石炭酸）は常温では結晶で、こぼれても液体のように広がりません。そのため、揮発性の溶剤ほど […]-
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